去年4月,武汉光电国家研究中心甘棕松团队,采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段。该样机实现了材料,软件和零部件等三个方面的国产化,打破了三维微纳光制造的国外技术垄断。
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